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  • 一种带电粒子束处理工件的方法与设备

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技术分类
  • 后处理
  • 连续镀覆的专用设备;维持真空的装置,例如真空锁定器
  • 镀覆工艺的控制或调节
  • 观察镀覆工艺的装置
  • 基座
  • 离子注入
  • 用外部离子源产生的离子束法
  • 施加高频及附加直流电压法
  • 三极溅射
  • 用交流放电的,例如高频放电
  • 直流辉光放电法
  • 二极溅射
  • 利用磁场的,例如磁控溅射
  • 溅射
  • 爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
  • 电子轰击法
  • 波能法或粒子辐射法
  • 电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
  • 真空蒸发
  • 以镀覆工艺为特征的
  • 在有机物基体上
  • 在其他无机物基体上
  • 在金属基体或在硼或硅基体上
  • 金属材料、硼或硅
  • 有机材料
  • 玻璃或二氧化硅
  • 氧化物
  • 以镀层材料为特征的
  • 局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物
  • 待镀材料的预处理
  • 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
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