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一种过渡族金属化合物析氢薄膜及射频反溅改性制备方法
本发明涉及电催化析氢技术领域,具体涉及一种过渡族金属化合物析氢薄膜,包括基底层和析氢催化层,所述析氢催化层设置在所述基底层的表面,所述析氢催化层为过渡族金属硫化合物、过渡族金属硒化合物和过渡族金属碲化合物中的一种所形成的薄膜,通过射频反溅产生的被离化的Ar等离子体随机辐照样品产生刻蚀效果,形成整个析氢薄膜平面内的随机刻蚀,使得析氢薄膜的催化活性得到显著提高。